2025.11.26
半導体分野におけるドライエッチングに関する技術
半導体分野におけるドライエッチング技術は、レジストパターンをマスクとして用い、プラズマや反応性イオンを利用して酸化膜、窒化物、炭化珪素などの固体層を選択的に除去し、ゲートやトレンチ、パターン形成を精密に行う技術群である。 これには、酸化膜や層間絶縁膜の…
半導体分野におけるドライエッチング技術は、レジストパターンをマスクとして用い、プラズマや反応性イオンを利用して酸化膜、窒化物、炭化珪素などの固体層を選択的に除去し、ゲートやトレンチ、パターン形成を精密に行う技術群である。 これには、酸化膜や層間絶縁膜の…