2025.11.24
半導体分野におけるキャリアガスに関する技術
半導体分野におけるキャリアガスに関する技術は、主にエピタキシャル成長や化学気相成長（MOCVD）などの薄膜形成プロセスで用いられる。キャリアガスは原料ガスをウェハ上の反応器内へ搬送する際の媒体として使用され、流路やバルブ、流量調節弁によってその流量や圧力、ガ…
半導体分野におけるキャリアガスに関する技術は、主にエピタキシャル成長や化学気相成長（MOCVD）などの薄膜形成プロセスで用いられる。キャリアガスは原料ガスをウェハ上の反応器内へ搬送する際の媒体として使用され、流路やバルブ、流量調節弁によってその流量や圧力、ガ…