2025.11.24
半導体分野におけるインピーダンスに関する技術
半導体分野におけるインピーダンスに関する技術は、導体や線路、ビア、パッドなどの構造要素における特性インピーダンスの制御や評価を中心とする。これには高周波やGHz帯域における伝送特性の解析が含まれ、高周波電力や交流信号の伝導において反射や損失を抑えることで回路…
半導体分野におけるインピーダンスに関する技術は、導体や線路、ビア、パッドなどの構造要素における特性インピーダンスの制御や評価を中心とする。これには高周波やGHz帯域における伝送特性の解析が含まれ、高周波電力や交流信号の伝導において反射や損失を抑えることで回路…
半導体分野における原子層堆積法(ALD)は、ウェハ上に極めて薄い膜材料を均一かつ高精度に成長させる技術である。ALDは前駆体となる原料ガスをパルス状にチャンバ内に導入し、吸着と化学反応を繰り返すことで酸化膜や層間絶縁膜、保護膜などの薄膜を形成する。 こ…
半導体分野における静電チャックに関する技術は、ウェハの安定した吸着および位置決めを目的とした技術群である。静電チャックはベースプレートやセラミックを基材として構成され、体積抵抗率の制御が重要である。給電方式には直流や高周波電力が用いられ、それによって電荷を発…