2025.11.24
半導体分野における原子層堆積法（ＡＬＤ）に関する技術
半導体分野における原子層堆積法（ALD）は、ウェハ上に極めて薄い膜材料を均一かつ高精度に成長させる技術である。ALDは前駆体となる原料ガスをパルス状にチャンバ内に導入し、吸着と化学反応を繰り返すことで酸化膜や層間絶縁膜、保護膜などの薄膜を形成する。 こ…
主要プレイヤー: 信越化学工業株式会社
2025.11.24
半導体分野におけるキャリアガスに関する技術
半導体分野におけるキャリアガスに関する技術は、主にエピタキシャル成長や化学気相成長（MOCVD）などの薄膜形成プロセスで用いられる。キャリアガスは原料ガスをウェハ上の反応器内へ搬送する際の媒体として使用され、流路やバルブ、流量調節弁によってその流量や圧力、ガ…
2025.11.22
機能性樹脂の耐腐食性に関する技術
機能性樹脂の耐腐食性に関する技術は、金属との接触環境における腐食防止を目的として、樹脂の組成設計や構造制御を行う技術群である。エポキシ樹脂やアクリル系樹脂をはじめとするモノマーや単量体を用い、架橋剤による高密度ネットワーク構造を形成することで耐食性を向上させ…
2025.11.20
半導体分野におけるアンダーフィルに関する技術
半導体分野におけるアンダーフィル技術は、集積回路チップと基板間の機械的・熱的信頼性を向上させるために用いられる接合部の封止技術である。具体的には、チップのバンプとパッド間の隙間に液状のエポキシ樹脂系の材料を塗工し、硬化剤や硬化促進剤との配合によって硬化させて…